我們要分析的電流係通過串聯的氮化矽與二氧化矽,從物理直觀看來,這個電流該是
由氮化矽或二氧化矽造成的穿隧電流取其小者主導,隨著電場與溫度的變化,兩
種穿隧機制的主從關係會隨之改變。在低電場下,F-P 穿隧會先發生,F-N 穿隧
則否;在高電場下,F-N 穿隧才有機會發生,F-P 穿隧依舊會發生,但被不同深
度陷阱所捕捉的電荷會隨著溫度的變化而有明顯的熱放射(Thermal Emission),使
得F-P 穿隧效應增強了,而F-N 穿隧則完全決定於能障減少的寬度來決定電流大

 

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